光电所i线深度光刻机品质满足市场生产线需求
出处:hui7744 发布于:2007-04-29 10:18:07
该机在微细加工实现深度光刻中具有突出特色,采用球气浮自动调平调焦技术及高倍率双目双视显微镜对准技术。具备接触和不接触曝光方式与定时、定剂量两种曝光剂量设定功能。采用高反射率大包容角椭球反射镜、i线高透过率光学玻璃材料和光学镀膜技术增加曝光能量,采用小聚光角等侧壁增陡技术,采用积木错位式蝇眼透镜平滑衍射效应提高光刻分辩力等先进技术。达到国际同类设备先进水平。光刻分辩力可达0.8~1μm,线条侧壁陡度高达85°,对深层光刻线条高宽比孤立线条可达60:1、等间距线条优于20:1,曝光速度在胶厚600μm(SU8胶)情况下,曝光时间小于10分钟。具有分辩力高,套刻准,线条陡直,线条高宽比大,曝光速度快等特点,可用于毫米量级深层光刻工艺生产的新型i线光刻设备。
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