台积电研究发展副总经理孙元成表示，为了能让22nm及更先进制造技术在符合成本效益下完成，台积电将就Mapper的解决方案进行测试，看能否达成此目标。　

　　台积电日前与荷兰设备商Mapper Lithography BV共同宣布签署协议，依据此协议，Mapper将会出货第一台12寸多电子束无掩模板光刻设备给台积电，作为制程开发及器件试制之用。此设备的多电子束技术，将帮助台积电进一步探索22nm及更先进制造工艺。

　　据报道，台积电是Mapper投资者之一，曾就使用Mapper技术探讨多年。

　　Mapper的电子束无掩模板光刻设备利用10000多束平行电子束直接打到晶圆上形成图样，减少了因为掩模板的使用而增加的成本。

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