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上海国家级集成电路研发中心建12英寸中试线
新闻出处:半导体信息网 发布时间: 2008年05月10日

  由上海国家级集成电路研发中心投入11.5亿元建设的“12英寸/65至45纳米级”产品中试线土建工程即将完工,预示着中国首个纳米级IC工艺研发公共平台将在上海形成。

  上海国家级集成电路研发中心,是在上海市信息委组织推动下,由华虹集团、上海创投、上海大盛、张江集团、上海贝岭、上海信投及复旦大学、上海交大、华东师大等高校多元化入股创立的一个非盈利性的公共研发平台。目前,除在建的中试线外,还通过与成熟生产线联机方法运转两个子平台。其中,“特种工艺平台”依托上海贝岭提供的6英寸产品线;而“8英寸/130至90纳米/铜互连线”争取到国际捐赠全套生产设备,在华虹NEC的厂房内运行。

  上海集成电路研发中心目前与多家企业、大学院所共建专利池,企业研发联盟成员共享2、3千项专利摊薄了工艺研发日趋高涨的成本,并创造出与国外交换专利的机会。一些中小型IC设计公司可在中试线上小批量流片,而一些本土公司研发出的半导体材料和设备,也将在此试产。据悉,该中心与浙江一家企业进行MEMS红外探测芯片研发的成本只有国外同类产品的1/10。

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