继获得IBM技术授权之后，中芯国际45纳米工艺技术再获重大进展。有报道称中芯已将购得的45纳米浸润式微显影(immersion lithography)设备于29日运往上海厂区Fab8。这也是中芯自有第一台45纳米工艺技术设备。

　　中芯透露，上海12英寸厂Fab8中4条生产线首批产品仍将采用90纳米工艺，但积极酝酿65、45纳米芯片的生产事宜，并计划2008年底试产45纳米芯片。