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请教:办个晶闸管厂,最少要多少投资?

作者:droum 栏目:IC产业
请教:办个晶闸管厂,最少要多少投资?
最贵的是哪几个设备?

2楼: >>参与讨论
droum
两天没人答
是因为老板们没空上网,还是害怕多一个竞争者?

3楼: >>参与讨论
droum
网上查到这么一条消息,说是至少要200万:

电力半导体器件的研制与开发

    项目负责人  关艳侠
    项目简介  
    适用于各种变流技术、节能技术、控制技术装置中的核心元器件,在机械,冶金、化工、电力、电子、交通、节能、安全保护、石油、煤炭采矿中,有广泛的应用。
    主要特点及技术指标、技术水平
    是50年代后迅速发展起来的技术含量高的半导体产业。
    其技术指标和技术水平,能完全满足当前国内的需求,共有三个系统:
    ①不控系列ZP.1—1000A/500—3000A  整流器件系列。
    ②半控制KP.1—1500A/500—2500V  可控硅器件系列。
    ③半控KK.100—800A/800—1800V  快速晶闸管系列。
    ④半控KS.100—500A/800—1600V双向晶闸管系列。
    市场预测、效益分析  
    该产业年全国可达到23亿元,辽宁省可达到1.7亿元,今年初又有上升。
    成本及售价  
    以1500A/1800V为例,成本在120元—180元/支,售价国家定价430元,私售价300元/支左右。
    实施条件及投资概算  
    需要一个生产线和一套检测设备,还需净化装置,按生产规模,投资可在200万—1000万(现在辽宁省已有若干家,因技术和管理问题不能维持而下马,可在这些基础上,加以调整,不投资或少投资)。
    服务内容等  
    ①可以承包1个生产线;
    ②全面技术咨询;
    ③包销部分产品。

[ 本版服务咨询电话:0412-2212349] 

4楼: >>参与讨论
droum
又找到如下消息
  1986年,青岛电器元件厂与意大利IR公司签订了引进可控硅制造技术、设备合同,配套人民币投资50万元。年底,为引进技术而新建的3600平方米超净生产线大楼竣工。为确保引进项目在1988年投产,各项引进工作陆续展开。

5楼: >>参与讨论
droum
网上查到半导体工艺主要设备大全:
清洗机
纯水机
净化设备
抛光机
光刻机
刻蚀机
去胶机
扩散炉
PECVD
LPCVD
溅射台
真空烘箱
划片机
成像系统
气体过滤器
液体过滤器
扩散片
曝光机
匀胶机/甩胶机
烘胶台
封装设备

哪些是必须的?
要多少钱?

6楼: >>参与讨论
frogan
路过的
我是路过的,弱弱的问一声晶闸管是做什么用的?

7楼: >>参与讨论
pcbwang
至少需要上千万才能开这样的厂.......
 
8楼: >>参与讨论
pcbwang
就一台溅射台就需要200多万......
还有离子植入机,扩散机...........

9楼: >>参与讨论
droum
肯定有二三十万元的溅射台,根据是查到的如下信息:
软基体热敏电阻(传感器)

   项目简介  该元件用于测温,由于基底为软基底所以可方便的粘巾于被测物体的表面,特别是那些表面不规则场所测温。另外由于整个芯片厚度不大于1mm所以特别适用于狭缝处温度的测量。
    主要特点及技术指标、技术水平
    主要指标:基底为软基底可适当弯曲,芯片很薄整个厚度不大于1mm故很适于不规则平面的狭缝外测温。
    技术指标:技术水平;测温范围-50℃—200℃,元件阻值100Ω,500Ω,温度系数4×10-3/℃。
    市场预测、效益分析  
    据测算全国石油化工、纺织、电力、电子、机械等行业,每年需要百万支,按每支2—3元计算,则每台年产值达几百万元,该元件成本很低,远低于铂热电阻,故利润可观,再考虑到社会效益更可观。
    成本及售价  
    2—5元/支。
    实施条件及投资概算  
    光刻机,真空热处理炉,溅射台,调阻设备,全部购买新的约50万元,恒温热场。
    服务内容  
    工艺过程、工艺条件、测试条件。






10楼: >>参与讨论
pcbwang
还需要买毒气,毒水,加上污水处理费.....
环保费, 人工费. 成本费. 流动资金.....
不光是买几台死机器就能生产的哈.  

没有上千万能成嘛?

11楼: >>参与讨论
droum
.
在基本同等的技术水平下,国产设备价格一般只有进口设备的1/10-1/3

12楼: >>参与讨论
droum
即使如此,
大量价格低廉的国外二手设备涌入我国,也给国产设备造成了极大的市场压力,它们抢夺了大部分的市场份额,同时也极大地缩小了国产设备的利润空间。
也就是说,他们比本来就已便宜己倍的国货还便宜。

13楼: >>参与讨论
droum
转帖
2007-1-26 17:27 chynaie
光刻技术是集成电路的关键技术之一

  在整个产品制造中是重要的经济影响因子,光刻成本占据了整个制造成本的35%

  光刻也是决定了集成电路按照摩尔定律发展的一个重要原因,如果没有光刻技术的
  进步,集成电路就不可能从微米进入深亚微米再进入纳米时代。
所以说光刻系统的先进程度也就决定了光刻工程的高低,

光刻系统的组成:

    光刻机(曝光工具) (光刻工程的核心部分,其造价昂贵.号称世界上最精密的仪      器,目前世界是已有7000万美金的光刻机.)

    掩膜版
    光刻胶(常伴随着光刻机的发展而前进.在一定程度上其也制约着光刻工艺的发展)

主要指标:

    分辨率W(resolution)-> 光刻系统所能分辨和加工的最小线条尺寸
    焦深(DOF-Depth Of Focus) -> 投影光学系统可清晰成象的尺度范围
    关键尺寸(CD-Critical Dimension)控制
    对准和套刻精度(Alignment and Overlay)
    产率(Throughout)
    价格

其中,W是决定光刻系统最重要的指标,也是决定芯片最小特征尺寸的原因。
其由瑞利定律决定: R = k1r/NA , 其中 r 是光刻波的波长。

提高光刻分辨率的途径:

    减小波长r, 其中, 光刻加工极限值:r/2 , 即半波长的分辨率
    增加数值孔径
    优化系统设计(分辨率增强技术)
    减小k1

主流光刻技术:
248nm DUV技术(KrF准分子激光) -> 0.10um 特征尺寸
193nm DUV技术(ArF准分子激光) -> 90nm 特征尺寸

新一代的替代光刻技术:
Immersion 193nm技术
157nm F2
EUV光刻 紫外线光刻
电子束投影光刻
X射线光刻
离子束光刻
纳米印制光刻

光学透镜
    透射式透镜(248nm、193nm)
    反射式透镜(157nm)

掩膜版
    由透光的衬底材料(石英玻璃)和不透光金属吸收层材料(主要是金属Cr)组成。
    通常要在表面淀积一层抗深紫外光损伤的增光型保护涂层

分辨率增强技术(RET):
     Step-Scan 技术
     偏轴照明(OAI)
     邻近效应校正(OPC)
     移相掩膜(PSM)
     具有化学增强放大功能的快速感光光刻胶
     光刻胶修剪(Resist Trimming)
     抗反射功能和表面感光后的多层光刻胶

14楼: >>参与讨论
droum
能否把光刻溅射切割封装等部分工序给别人做,
自己掌握扩散之类,以保守关键技术诀窍,并减少投资?

15楼: >>参与讨论
droum
!
在半导体二手设备-中国市场研讨会上,国内一些设备翻新公司表示,经过他们翻新的二手半导体设备价格可以达到新设备的三分之一,其中二手设备采购成本大约是10%~20%,更换零部件和人工翻新的利润是10%~20%。并且国内的设备翻新公司可以提供更好的售后服务。设备投资低且实用,使芯片具有了较强的市场竞争力。


16楼: >>参与讨论
droum
!
Bid Service公司把有价值的半导体设备拍成照片,并定期出版导购手册,客户可以根据手册上的信息亲自到现场选购。此类设备的价格通常都非常便宜,例如5万美元就可以买到一台溅射台,而同样的新设备则需要300万美元。

17楼: >>参与讨论
pcbwang
楼主去开一个呀. 期待中.......
祝发达..

18楼: >>参与讨论
droum
我已问清楚了
最少230万
不过即使如此我还差距太远。
目前正联系承包看看

19楼: >>参与讨论
pcbwang
继续努力奋斗....,期待中....
 
20楼: >>参与讨论
mcuplayer
极度佩服楼主的资讯查找能力
 
21楼: >>参与讨论
droum
前几天我参观电子展,提了类似问题.
得到的建议是从封装做起.
买些封装设备,把从芯片供应商那里买来的芯片,封装成元件出售.
很多半导体厂就是这样起家的.

22楼: >>参与讨论
highway
楼主是强人,是老师吗?
希望能看到好的国产器件,有机会联系下:)

23楼: >>参与讨论
张玮

我就是生产晶闸管可控硅的企业,不需要那么多的钱,最多30万就够了,也许还不要呢,有些设备可以不用买的,我们都自己做的,便宜实惠,我qq779550671

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