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请教:办个晶闸管厂,最少要多少投资? |
作者:droum 栏目:IC产业 |
最贵的是哪几个设备? |
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作者: droum 于 2007/2/24 13:16:00 发布:
两天没人答 是因为老板们没空上网,还是害怕多一个竞争者? |
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作者: droum 于 2007/2/24 13:52:00 发布:
网上查到这么一条消息,说是至少要200万: 电力半导体器件的研制与开发 项目负责人 关艳侠 项目简介 适用于各种变流技术、节能技术、控制技术装置中的核心元器件,在机械,冶金、化工、电力、电子、交通、节能、安全保护、石油、煤炭采矿中,有广泛的应用。 主要特点及技术指标、技术水平 是50年代后迅速发展起来的技术含量高的半导体产业。 其技术指标和技术水平,能完全满足当前国内的需求,共有三个系统: ①不控系列ZP.1—1000A/500—3000A 整流器件系列。 ②半控制KP.1—1500A/500—2500V 可控硅器件系列。 ③半控KK.100—800A/800—1800V 快速晶闸管系列。 ④半控KS.100—500A/800—1600V双向晶闸管系列。 市场预测、效益分析 该产业年全国可达到23亿元,辽宁省可达到1.7亿元,今年初又有上升。 成本及售价 以1500A/1800V为例,成本在120元—180元/支,售价国家定价430元,私售价300元/支左右。 实施条件及投资概算 需要一个生产线和一套检测设备,还需净化装置,按生产规模,投资可在200万—1000万(现在辽宁省已有若干家,因技术和管理问题不能维持而下马,可在这些基础上,加以调整,不投资或少投资)。 服务内容等 ①可以承包1个生产线; ②全面技术咨询; ③包销部分产品。 [ 本版服务咨询电话:0412-2212349] |
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作者: droum 于 2007/2/24 14:27:00 发布:
又找到如下消息 1986年,青岛电器元件厂与意大利IR公司签订了引进可控硅制造技术、设备合同,配套人民币投资50万元。年底,为引进技术而新建的3600平方米超净生产线大楼竣工。为确保引进项目在1988年投产,各项引进工作陆续展开。 |
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作者: droum 于 2007/2/24 15:05:00 发布:
网上查到半导体工艺主要设备大全: 清洗机 纯水机 净化设备 抛光机 光刻机 刻蚀机 去胶机 扩散炉 PECVD LPCVD 溅射台 真空烘箱 划片机 成像系统 气体过滤器 液体过滤器 扩散片 曝光机 匀胶机/甩胶机 烘胶台 封装设备 哪些是必须的? 要多少钱? |
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作者: frogan 于 2007/2/27 16:54:00 发布:
路过的 我是路过的,弱弱的问一声晶闸管是做什么用的? |
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作者: pcbwang 于 2007/2/28 9:57:00 发布:
至少需要上千万才能开这样的厂....... |
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作者: pcbwang 于 2007/2/28 9:58:00 发布:
就一台溅射台就需要200多万...... 还有离子植入机,扩散机........... |
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作者: droum 于 2007/3/4 11:07:00 发布:
肯定有二三十万元的溅射台,根据是查到的如下信息: 软基体热敏电阻(传感器) 项目简介 该元件用于测温,由于基底为软基底所以可方便的粘巾于被测物体的表面,特别是那些表面不规则场所测温。另外由于整个芯片厚度不大于1mm所以特别适用于狭缝处温度的测量。 主要特点及技术指标、技术水平 主要指标:基底为软基底可适当弯曲,芯片很薄整个厚度不大于1mm故很适于不规则平面的狭缝外测温。 技术指标:技术水平;测温范围-50℃—200℃,元件阻值100Ω,500Ω,温度系数4×10-3/℃。 市场预测、效益分析 据测算全国石油化工、纺织、电力、电子、机械等行业,每年需要百万支,按每支2—3元计算,则每台年产值达几百万元,该元件成本很低,远低于铂热电阻,故利润可观,再考虑到社会效益更可观。 成本及售价 2—5元/支。 实施条件及投资概算 光刻机,真空热处理炉,溅射台,调阻设备,全部购买新的约50万元,恒温热场。 服务内容 工艺过程、工艺条件、测试条件。 |
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作者: pcbwang 于 2007/3/5 10:24:00 发布:
还需要买毒气,毒水,加上污水处理费..... 环保费, 人工费. 成本费. 流动资金..... 不光是买几台死机器就能生产的哈. 没有上千万能成嘛? |
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作者: droum 于 2007/3/5 15:27:00 发布:
. 在基本同等的技术水平下,国产设备价格一般只有进口设备的1/10-1/3 |
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作者: droum 于 2007/3/5 18:03:00 发布:
即使如此, 大量价格低廉的国外二手设备涌入我国,也给国产设备造成了极大的市场压力,它们抢夺了大部分的市场份额,同时也极大地缩小了国产设备的利润空间。 也就是说,他们比本来就已便宜己倍的国货还便宜。 |
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作者: droum 于 2007/3/5 18:44:00 发布:
转帖 2007-1-26 17:27 chynaie 光刻技术是集成电路的关键技术之一 在整个产品制造中是重要的经济影响因子,光刻成本占据了整个制造成本的35% 光刻也是决定了集成电路按照摩尔定律发展的一个重要原因,如果没有光刻技术的 进步,集成电路就不可能从微米进入深亚微米再进入纳米时代。 所以说光刻系统的先进程度也就决定了光刻工程的高低, 光刻系统的组成: 光刻机(曝光工具) (光刻工程的核心部分,其造价昂贵.号称世界上最精密的仪 器,目前世界是已有7000万美金的光刻机.) 掩膜版 光刻胶(常伴随着光刻机的发展而前进.在一定程度上其也制约着光刻工艺的发展) 主要指标: 分辨率W(resolution)-> 光刻系统所能分辨和加工的最小线条尺寸 焦深(DOF-Depth Of Focus) -> 投影光学系统可清晰成象的尺度范围 关键尺寸(CD-Critical Dimension)控制 对准和套刻精度(Alignment and Overlay) 产率(Throughout) 价格 其中,W是决定光刻系统最重要的指标,也是决定芯片最小特征尺寸的原因。 其由瑞利定律决定: R = k1r/NA , 其中 r 是光刻波的波长。 提高光刻分辨率的途径: 减小波长r, 其中, 光刻加工极限值:r/2 , 即半波长的分辨率 增加数值孔径 优化系统设计(分辨率增强技术) 减小k1 主流光刻技术: 248nm DUV技术(KrF准分子激光) -> 0.10um 特征尺寸 193nm DUV技术(ArF准分子激光) -> 90nm 特征尺寸 新一代的替代光刻技术: Immersion 193nm技术 157nm F2 EUV光刻 紫外线光刻 电子束投影光刻 X射线光刻 离子束光刻 纳米印制光刻 光学透镜 透射式透镜(248nm、193nm) 反射式透镜(157nm) 掩膜版 由透光的衬底材料(石英玻璃)和不透光金属吸收层材料(主要是金属Cr)组成。 通常要在表面淀积一层抗深紫外光损伤的增光型保护涂层 分辨率增强技术(RET): Step-Scan 技术 偏轴照明(OAI) 邻近效应校正(OPC) 移相掩膜(PSM) 具有化学增强放大功能的快速感光光刻胶 光刻胶修剪(Resist Trimming) 抗反射功能和表面感光后的多层光刻胶 |
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作者: droum 于 2007/3/5 19:34:00 发布:
能否把光刻溅射切割封装等部分工序给别人做, 自己掌握扩散之类,以保守关键技术诀窍,并减少投资? |
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作者: droum 于 2007/3/6 11:39:00 发布:
! 在半导体二手设备-中国市场研讨会上,国内一些设备翻新公司表示,经过他们翻新的二手半导体设备价格可以达到新设备的三分之一,其中二手设备采购成本大约是10%~20%,更换零部件和人工翻新的利润是10%~20%。并且国内的设备翻新公司可以提供更好的售后服务。设备投资低且实用,使芯片具有了较强的市场竞争力。 |
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作者: droum 于 2007/3/6 12:37:00 发布:
! Bid Service公司把有价值的半导体设备拍成照片,并定期出版导购手册,客户可以根据手册上的信息亲自到现场选购。此类设备的价格通常都非常便宜,例如5万美元就可以买到一台溅射台,而同样的新设备则需要300万美元。 |
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作者: pcbwang 于 2007/3/9 17:02:00 发布:
楼主去开一个呀. 期待中....... 祝发达.. |
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作者: droum 于 2007/3/10 12:21:00 发布:
我已问清楚了 最少230万 不过即使如此我还差距太远。 目前正联系承包看看 |
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作者: pcbwang 于 2007/3/12 18:06:00 发布:
继续努力奋斗....,期待中.... |
20楼: | >>参与讨论 |
作者: mcuplayer 于 2007/3/27 12:53:00 发布:
极度佩服楼主的资讯查找能力 |
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作者: droum 于 2007/4/14 17:28:00 发布:
前几天我参观电子展,提了类似问题. 得到的建议是从封装做起. 买些封装设备,把从芯片供应商那里买来的芯片,封装成元件出售. 很多半导体厂就是这样起家的. |
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作者: highway 于 2007/4/14 20:29:00 发布:
楼主是强人,是老师吗? 希望能看到好的国产器件,有机会联系下:) |
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作者: 张玮 于 2010/9/28 23:14:48 发布:
我就是生产晶闸管可控硅的企业,不需要那么多的钱,最多30万就够了,也许还不要呢,有些设备可以不用买的,我们都自己做的,便宜实惠,我qq779550671 |
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