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请问什么是nwell和P substrate？？ |
| 作者：debugme 栏目：IC设计 |
请问什么是nwell和P substrate？？ 在CMOS的IC设计，如NPN三极管中经常看到请问什么是nwell和P substrate的说法，请问倒底指的是什么，能详细介绍一下吗，谢谢 |
| 2楼： | >>参与讨论 |
| 作者： kelenma 于 2007/4/5 20:36:00 发布：
回复主题：请问什么是nwell和P substrate？？ 答： 通常，我们都用P型基体晶圆在制作IC。对于普通的CMOS工艺而言，NMOS 管可以直接做在P型衬底的有源区内，而PMOS管则必须做在N Well的有源区内。CMOS工艺还可分类为单阱工艺和双阱工艺，前提都是基于P型衬底。 三极管的实现，也是在阱中通过适当的PN结偏置所形成。 |
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| 3楼： | >>参与讨论 |
| 作者： debugme 于 2007/4/9 14:07:00 发布：
请问什么是nwell和P substrate，我还是不太明白 请问什么是nwell和P substrate，我还是不太明白 |
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| 4楼： | >>参与讨论 |
| 作者： chargepump 于 2007/4/13 2:08:00 发布：
kelenma说的很清楚啊 kelenma说的很清楚啊，楼主需要看些基本的MOSFET structure, 找一本工艺或者layout的书看看就行了。否则说了你也难以理解。 |
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| 5楼： | >>参与讨论 |
| 作者： superyx23 于 2007/4/16 20:25:00 发布：
re N well就是N阱 P substrate就是P 衬底 阱和衬底不懂看书吧 |
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| 6楼： | >>参与讨论 |
| 作者： echo2005 于 2007/4/25 16:28:00 发布：
这么简单的问题，不懂看书! |
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| 7楼： | >>参与讨论 |
| 作者： 解放 于 2007/5/4 8:34:00 发布：
给你说说吧，不全面 衬底是针对晶圆来说的，晶圆厂生产的圆片分N型P型，又分别分为〈111〉<100>等晶向，不懂的去看固体物理书。针对不同的集成电路制造工艺可以（比如CMOS.html">CMOS和ttl）使用不同类型的晶圆，这是由电路结构和工作原理决定的，你问我我也说不清，还是去看书。 至于你问的： 请问什么是nwell和P substrate？？ 应先说P substrate，因为衬底是整个ic design的物理基础，P substrate就是P型掺杂的晶片，一般是P-，通常参杂的是錋源。这是在流片之前就已经定下来的了。 至于你说的N well，就是N阱。 一般CMOS集成电路分为单阱，双阱和准双阱。 不管何种工艺，在P substrate上必然是要做N well的了，因为要形成反型和电隔离、反偏等p型管是必须做在N well中的，除非你做的是NMOS工艺，这个先不提。 同理，又产生了N阱，这是由流片厂商决定的，因此在决定流片前就要且定好你的设计，是采用何种工艺。 有些厂商用的是双阱，有些是准双阱，通常情况下，准双阱中的N阱是根据P阱的层取反加上一定的bais修正值就可以达到要求。 --------------------- 以上是本人根据自己的经验随便写的，有错误的还希望前辈指教。 |
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