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半导体硅片RCA清洗技术
传统的rca清洗技术：所用清洗装置大多是多槽浸泡式清洗系统清洗工序： sc-1 → dhf → sc-2 1. sc-1清洗去除颗粒：⑴ 目的：主要是去除颗粒沾污（粒子）也能去除部分金属杂质。⑵ 去除颗粒的原理：硅片表面由于h2o2氧化作用生成氧化膜（约6nm呈亲水性），该氧化膜又被nh4oh腐蚀，腐蚀后立即又发生氧化，氧化和腐蚀反复进行，因此附着在硅片表面的颗粒也随腐蚀层而落入清洗液内。① 自然氧化膜约0.6nm厚，其与nh4oh、h2o2浓度及清洗液温度无关。② sio2的腐蚀速度，随nh4oh的浓度升高而加快，其与h2o2的浓度无关。③ si的腐蚀速度，随nh4oh的浓度升高而快，当到达某一浓度后为一定值，h2o2浓度越高这一值越小。④ nh4oh促进腐蚀，h2o2阻碍腐蚀。⑤ 若h2o2的浓度一定，nh4oh浓度越低，颗粒去除率也越低，如果同时降低h2o2浓度,可抑制颗粒的去除率的下降。⑥ 随着清洗洗液温度升高，颗粒去除率也提高，在一定温度下可达最大值。⑦ 颗粒去除率与硅片表面腐蚀量有关，为确保颗粒的去除要有一定量以上的腐蚀。⑧ 超声波清洗时，由于空洞
新的硅片清洗技术
a.新清洗液的开发使用1）.apm清洗a. 为抑制sc-1时表面ra变大，应降低nh4oh组成比，例：nh4oh：h2o2：h2o = 0.05：1：1当ra = 0.2nm的硅片清洗后其值不变，在apm洗后的d1w漂洗应在低温下进行。b. 可使用兆声波清洗去除超微粒子，同时可降低清洗液温度，减少金属附着。c. 在sc-1液中添加界面活性剂、可使清洗液的表面张力从6.3dyn/cm下降到19 dyn/cm。选用低表面张力的清洗液，可使颗粒去除率稳定，维持较高的去除效率。使用sc-1液洗，其ra变大，约是清洗前的2倍。用低表面张力的清洗液，其ra变化不大（基本不变）。d. 在sc-1液中加入hf，控制其ph值，可控制清洗液中金属络合离子的状态，抑制金属的再附着，也可抑制ra的增大和cop的发生。e. 在sc-1加入螯合剂，可使洗液中的金属不断形成螯合物，有利抑制金属的表面的附着。2）.去除有机物： o3 + h2o3）.sc-1液的改进： sc-1 + 界面活性剂sc-1 + hfsc-1 + 螯合剂4）.dhf的改进： dhf + 氧化剂（例hf+h2o2）dhf + 阴离
半导体硅片的化学清洗技术-硅片的化学清洗工艺原理
化学清洗技术。⑵ 美国原cfm公司推出的full-flow systems封闭式溢流型清洗技术。⑶ 美国verteq公司推出的介于浸泡与封闭式之间的化学清洗技术（例goldfinger mach2清洗系统）。⑷ 美国ssec公司的双面檫洗技术（例m3304 dss清洗系统）。 ⑸ 曰本提出无药液的电介离子水清洗技术（用电介超纯离子水清洗）使抛光片表面洁净技术达到了新的水平。⑹ 以hf / o3为基础的硅片化学清洗技术。目前常用h2o2作强氧化剂，选用hcl作为h+的来源用于清除金属离子。 sc-1是h2o2和nh4oh的碱性溶液，通过h2o2的强氧化和nh4oh的溶解作用，使有机物沾污变成水溶性化合物，随去离子水的冲洗而被排除。由于溶液具有强氧化性和络合性，能氧化cr、cu、zn、ag、ni、co、ca、fe、mg等使其变成高价离子，然后进一步与碱作用，生成可溶性络合物而随去离子水的冲洗而被去除。为此用sc-1液清洗抛光片既能去除有机沾污，亦能去除某些金属沾污。 sc-2是h2o2和hcl的酸性溶液，它具有极强的氧化性和络合性，能与氧以前的金属作用生成盐随去离子水冲洗而被去除
光线示波器的种类和选择方法
光线示波器按供电方式不同分为交流供电示波器、直流供电示波器和交直流两用光线示波器。交流供电示波器，如国产sc-16、sc 18和sc-60等机型，一般用于有交流电的实验室或工作现场；直流供电示波器，如国产sc-9、sc-1 7、sc-1 9和sc-22等机型，体积小、质量小，适用于没有交流电源的场合；交直流两用光线示波器，如国产的sc-10、sc-11等机型，兼有以上两类示波器的特点，既能用紫外光直接记录，又能用白炽灯源进行暗记录。按记录方式的不同可分为直接记录和暗记录两种形式。直接记录在普通光线下能显示图像，因此可直接看到记录图像；暗记录只需一般的光源，但需在暗室中显影和定影，因此在试验过程中不能直接看到记录图像，这类光线示波器主要有sc-17、sc-19和sc-22等型号。按磁系统的不同可分为单磁式和共磁式两种。单磁式示波器的每个振动子本身有一个磁钢，如sc-1型光线示波器；共磁式示波器的全部振动子共用一个磁钢，振动子插入磁钢的各个孔中，目前多数示波器采用共磁式。使用时可根据测试要求和条件合理选择。欢迎转载，信息来源维库电子市场网（www.dzsc.com）
光线示波器概述
光线示波器是一种常用的模拟式记录器，主要用于模拟量数据的记录，它将信号调整仪输入的电信号转换为光信号并记录在感光纸或胶片上，从而得到试验变量与时间的关系曲线。如下图所示为sc-16型光线示波器的外形图。图 sc-1 6型光线示波器的外形光线示波器是依据磁电式原理工作，并以感光方式记录测量结果，它的记录方式主要有三种：白炽光显定影记录、紫外光直接记录和白炽光直接记录。白炽光显定影记录采用普通照明灯作光源，把信号记录在胶卷或照相感光纸上，然后在暗室里显、定影。紫外光直接记录采用超高压水银灯作光源，用它产生的紫外光把信号记录在紫外线感光纸上，经过二次曝光即显示波形。白炽光苴接记录采用高效白炽灯作光源，把信号记录在涂有特种感光乳剂的记录纸上，经过二次曝光后，显出被测信号波形。光线示波器具有以下特点。 ①由于光线示波器采用光学放大系统，使用高质量磁系统及高灵敏度的振动子，因此可获得很高的灵敏度。 ②动圈式振动子的自振频率可高达上万赫兹，因此记录信号的频率可达数千赫兹，是笔式记录仪的十几倍。 ③能同时记录多个信号，光线不会相互干扰、碰撞，可实现交叉

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