分步重复光刻机
出处：lyq8008 发布于：2008-12-02 14:29:55
图显示了一种简单分步重复光刻系统。掩模版放在聚焦透镜和投影系统之间，掩模图像是被缩小了5～10倍投影到衬底晶片上的。这种光学系统有很多优点：，可以利用大得多的特征尺寸绘制掩模图形，例如在制作了特征尺寸为0.1 μm的图形，可以在掩模上用1μm的线宽，相对来说容易很多；其次，由于缩小作用，曝光可以只用到晶片上的一小部分。步进光刻机采用的是投影掩模版，上面包含了一个曝光场内对应一个或多个芯片的图形。为了曝光整个晶片，每次曝光以后都需要一定晶片来使下一个芯片区域移动到投影照射区域，因此称为分步重复光刻。
图 一个简单的步进光刻系统示意图
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