分步重复光刻机
出处：lyq8008 发布于：2008-12-02 14:29:55
图显示了一种简单分步重复光刻系统。掩模版放在聚焦透镜和投影系统之间，掩模图像是被缩小了5～10倍投影到衬底晶片上的。这种光学系统有很多优点：，可以利用大得多的特征尺寸绘制掩模图形，例如在制作了特征尺寸为0.1 μm的图形，可以在掩模上用1μm的线宽，相对来说容易很多；其次，由于缩小作用，曝光可以只用到晶片上的一小部分。步进光刻机采用的是投影掩模版，上面包含了一个曝光场内对应一个或多个芯片的图形。为了曝光整个晶片，每次曝光以后都需要一定晶片来使下一个芯片区域移动到投影照射区域，因此称为分步重复光刻。
图 一个简单的步进光刻系统示意图
上一篇：接触式／接近式光刻机
下一篇：步进扫描光刻机
版权与免责声明
凡本网注明“出处：维库电子市场网”的所有作品，版权均属于维库电子市场网，转载请必须注明维库电子市场网，https://www.dzsc.com，违反者本网将追究相关法律责任。
本网转载并注明自其它出处的作品，目的在于传递更多信息，并不代表本网赞同其观点或证实其内容的真实性，不承担此类作品侵权行为的直接责任及连带责任。其他媒体、网站或个人从本网转载时，必须保留本网注明的作品出处，并自负版权等法律责任。
如涉及作品内容、版权等问题，请在作品发表之日起一周内与本网联系，否则视为放弃相关权利。
相关技术资料
- 热电偶的型号有几种2024/9/23 17:38:36
- 金属电阻应变片的三种主要类型2024/9/20 17:40:43
- 二极管的基础知识2024/9/19 17:33:27
- 你的电阻器实际上会产生多少噪音？2024/9/19 16:49:17
- 电导率单位2024/9/13 17:40:49
技术分类
广告
热门技术资料
