PNP型半导体三极管和NPN型半导体三极管的基本工作原理完全一样，下面以NPN型半导体三极管为例来说明其内部的电流传输过程，进而介绍它的工作原理。

　　半导体三极管常用的连接电路如图一(a)所示。半导体三极管内部的电流传输过程如图一(b)所示。半导体三极管中的电流传输可分为三个阶段。

　　1、发射区向基区发射电子

　　电源接通后，发射结为正向连接。在正向电场作用下，发射区的多数载流子(电子)的扩散运动加强。因此，发射区的电子很容易在外电场的作用下越过发射结进入基区，形成电子流IEN(注意电流的方向与电子运动的方向相反)。当然，基区的多数载流子(空穴)也会在外电场的作用下流向发射区，形成空穴电流IEp。但由于基区的杂质浓度很低，与从发射区来的电子流相比，IEP可以忽略不计，所以发射极电流为:

IE＝IEN＋IEP≈IEN

　　图一　NPN型三极管中的电流传输

　　2、电子在基区中的扩散与复合

　　从发射区扩散到基区的电子到达基区后，由于基区靠发射区的一侧电子浓度较大，靠集电区一侧电子浓度较小，所以电子继续向集电区扩散。在扩散过程中，电子有可能与基区的空穴相遇而复合，基极电源马不断提供空穴，这就形成了基极电流IBN。由于基区很薄，而空穴浓度低，电子与空穴复合的机会很少，大部分电子继续向集电区扩散。此外，半导体三极管工作时，集电结为反向连接,在反向电场作用下，基区与集电区之间少数载流子的漂移运动加强。因基区载流子很少，电子更少，故漂移运动主要是集电区的空穴流向基区。漂移运动形成的电流ICBO的数值很小，而且与外加电场的大小关系不大，它被称为集电极反向饱和电流。因此，基极电流为：

　　3、集电极电流的形成

　　由于集电结加的是反向电场，经过基区继续向集电区方向扩散的电子是逆电场方向的，所以受到拉力，加速流向集电区，形成电子流ICN。如果考虑集电极饱和电流ICBO的影响，集电极电流应为: