硅-硅直接键合的界面应力
出处:liaozhihua 发布于:2007-04-29 10:08:14
键合过程引入的应力主要是室温下两硅片面贴合时因表面起伏引起的弹性应力、高温退火阶段由于两个硅片的热膨胀系数不同引起的热应力、以及由于界面的本征氧化层或与二氧化硅键合时二氧化硅发生粘滞流动引起的粘滞应力。另外,键合界面的气泡、微粒和带图形的硅片键合都会引入附加的应力。在贴合工艺中引起的界面应力主要是弹性应力,在高温退火工艺中引起的主要是热应力和塑性应力。
上一篇:键合应力的基本模型
版权与免责声明
凡本网注明“出处:维库电子市场网”的所有作品,版权均属于维库电子市场网,转载请必须注明维库电子市场网,https://www.dzsc.com,违反者本网将追究相关法律责任。
本网转载并注明自其它出处的作品,目的在于传递更多信息,并不代表本网赞同其观点或证实其内容的真实性,不承担此类作品侵权行为的直接责任及连带责任。其他媒体、网站或个人从本网转载时,必须保留本网注明的作品出处,并自负版权等法律责任。
如涉及作品内容、版权等问题,请在作品发表之日起一周内与本网联系,否则视为放弃相关权利。
- 什么是氢氧燃料电池,氢氧燃料电池的知识介绍2025/8/29 16:58:56
- SQL核心知识点总结2025/8/11 16:51:36
- 等电位端子箱是什么_等电位端子箱的作用2025/8/1 11:36:41
- 基于PID控制和重复控制的复合控制策略2025/7/29 16:58:24
- 什么是树莓派?一文快速了解树莓派基础知识2025/6/18 16:30:52









