课程内容：

1 离子注入及其原理

1.1 离子注入掺杂

1.2 离子注入设备及工作原理

1.2.1 离子源

1.2.2 初聚系统

1.2.3 磁分析器

1.2.4 加速器

1.2.5 扫描器

1.2.6 偏束板

1.2.7 靶室

1.3 离子注入的杂质分布曲线

1.3.1 离子注入杂质分布的峰值在体内

1.3.2 峰值以内的杂质分布为高斯分布

2 晶格损伤及处理

2.1 晶格损伤

2.1.1 损伤原因

2.1.2 影响晶格畸变的因素

2.1.3 晶格损伤对器件性能的影响

2.2 晶格损伤的处理-退火工艺

2.2.1 退火的目的

2.2.2 退火的结果

2.2.3 退火的方法

3 离子注入优缺点

3.1 离子注入优点

3.2 离子注入缺点

4 离子注入的应用