导读：近日，陶氏化学公司旗下的陶氏电子材料事业群日前推出了IKONIC 4000系列的化学机械研磨（CMP）研磨垫产品。该系列研磨垫初期将主要面向铈基应用。

　　“业界对于IKONIC技术的总体反映可谓出奇的好，”陶氏电子材料事业群的CMPT市场营销总监Colin Cameron介绍说。“IKONIC 4000系列为我们提供了的产品设计所普遍需要的很多至关重要的属性。这些研磨垫具备高度的可调性，能够进行定制以应对特定的要求。陶氏的大批量制造方法以及对于工艺控制的专注确保了我们客户的工艺过程中的一致性和可靠性，进一步地提高了产品效能。”

　　新的IKONIC 4000系列产品解决了以往在研磨要求和低缺陷率之间的取舍难题。其全新的化学原理在整个研磨垫使用寿命内均可提供稳定的去除速率，使其特别适合用于与铈基研磨相关的高难度领域。与业界标准IC1000研磨垫相比，IKONIC 4000系列产品在成品缺陷率方面改进了70%.

　　IKONIC 4000系列产品是陶氏与客户协作开发的成果，目前可提供多种型号，涵盖范围很广的硬度和孔洞率。籍此可以实现定制以便应对具体的客户要求。这些研磨垫还进行了优化，以便使研磨垫的修整更为简便，并使研磨垫在整个使用寿命里均保持稳定的纹理。

　　IKONIC 4000系列产品已经成功通过验证，现在已可提供样品。

　　关于IKONIC CMP研磨垫

　　IKONIC平台将一整套独特的化学特性与灵活的设计密度结合在一起，为客户提供了范围很广的定制解决方案。这些研磨垫旨在改进缺陷率表现，从而提高晶圆良率，并使研磨垫使用寿命更长，从而实现更高的设备使用效率。针对产出量和选择性方面的要求，IKONIC CMP研磨垫可以实现广泛的去除率目标要求，从而满足工艺方面的需要。选择IKONIC系列的产品亦有助于提高研磨效率和晶圆形貌。这些优点使得IKONIC研磨垫平台成为各种研磨应用的完美选择。