RFIC 设计注意事项

　　RF IC 设计与模拟 IC 设计的利基领域非常相似，通常是一种需要一种或多种 EDA 工具辅助的定制流程。RF IC 设计的部分性在于，寄生效应和封装特性对 RF 电路的性能具有一阶影响。因此，RF IC 设计通常是一个迭代过程，涉及在整个 IC 设计过程中广泛使用 EM 仿真、寄生建模和封装建模。

　　LMH3401 是一款针对 RF 应用进行优化的全差分放大器。图片由德州仪器 (TI)提供
　　系统预算参数
　　RF IC 设计还根据关键参数的“系统预算”给出了性能要求和约束，例如噪声系数、功率、相位噪声、谐波、线性度等。该预算由系统级设计团队确定，它将预算限制和性能要求传递给负责系统图中每个模块的射频设计人员。这些模块进一步细分为拓扑和电路，并使用可处理 IC 的 EM 仿真工具进行设计、仿真、优化和布局仿真的迭代过程。
　　IC 设计限制
　　由于一些片上无源器件（例如电感器和电容器）受到代工厂的严重限制，射频 IC 设计人员通常对这些组件的尺寸和值的控制有限。这导致设计中存在更大的不确定性，并且可能需要与代工厂反复设计和测试新组件，以生产出能满足射频电路需求的组件。
　　在某些情况下，射频设计人员可能需要对键合线和其他与代工厂无关的封装动态进行额外建模，以准确预测终组装中的寄生效应和终器件性能。许多 RFIC 以裸芯片形式交付，并直接引线键合到组件或托盘中，而不是典型的 IC 封装和 PCB 放置。
　　电磁仿真
　　一旦 RF IC 进入物理布局阶段，通常会进行多次 EM 仿真、电路仿真和寄生参数提取，其中至少涉及 IC 封装，但也可能会考虑设备的 PCB 和外部电路。其原因是，射频电路与高度敏感的模拟电路非常相似，可能会因附近的外部电路、电场/磁场、温度、电磁信号和其他环境因素而经历巨大的性能变化。

　　即使在流片之后，在提交终设计和开始 RFIC 生产之前，通常也需要进行测试、模型增强和其他优化。

　　作为 RF 设计 EDA 工具功能的 EM 建模多布局调节。图片由Cadence提供
　　RF 抽象级别
　　以下是 RF IC 的一般抽象级别：
　　功能性
　　行为的
　　宏
　　电路
　　晶体管
　　物理布局
　　RFIC设计流程
　　以下描述了工程师设计射频集成电路时可能遵循的工作流程：
　　设计规范
　　规格
　　约束条件
　　拓扑结构
　　测试台开发
　　系统设计
　　高层系统设计和预算
　　行为建模
　　电路综合
　　HDL 混合级 SIM
　　混合级分区
　　电路设计
　　使用铸造设计套件
　　螺旋电感器综合/建模
　　详细电路设计
　　电路仿真
　　时域
　　频域
　　物理设计
　　布局
　　电磁模拟与提取
　　寄生提取
　　片上无源器件的提取
　　封装寄生效应的提取
　　设计规则检查（DRC）
　　布局与原理图 (LVS)
　　系统测试台验证
　　签收 网络提取/流片